伊(yi)爽環境-上(shang)海(hai)線路板廢(fei)水(shui)處理設(she)備(bei)

上(shang)海(hai)線路板廢(fei)水(shui)處理設(she)備(bei)主(zhu)要(yao)工藝(yi)流(liu)程(cheng)如(ru)下(xia)：

(1)單(dan)面(mian)板(ban)：開(kai)料(liao)→打磨(mo)→印(yin)線路→蝕(shi)刻→洗油(you)墨板(ban)→鉆(zuan)孔(kong)→印(yin)字(zi)→烘幹(gan)。

(2)雙(shuang)面(mian)板(ban)：原(yuan)板(ban)→材(cai)料切斷→材(cai)料整(zheng)面(mian)(鉆(zuan)孔(kong))→化學(xue)處理(鍍銅(tong))→貼(tie)幹膜→曝(pu)光→堿(jian)性顯影(ying)→蝕(shi)刻→堿性剝(bo)離→幹(gan)燥(zao)→整(zheng)面(mian)→Coverlav film貼(tie)合(he)→Coverlay臨(lin)時壓著→熱(re)壓(ya)→表面(mian)處理(電(dian)鍍)→外(wai)形加工(gong)(鉆(zuan)孔(kong))→加工(gong)防(fang)銹處理→檢查(zha)→捆(kun)包、出貨(huo)。

(3)多(duo)層板制作(zuo)流(liu)程(cheng)：發(fa)料→裁(cai)切→內(nei)層線路制作(zuo)(經(jing)測(ce)試、修(xiu)補(bu)後(hou))→黑化→烘烤(kao)→壓(ya)合→烘烤(kao)→裁(cai)切→銑(xi)鉆(zuan)靶→半(ban)撈壹(yi)鉆(zuan)孔(kong)→PTH→電(dian)鍍壹(yi)次銅(tong)→外層線路制作(zuo)→電(dian)鍍二(er)次銅(tong)→剝(bo)膜(mo)蝕(shi)刻，剝(bo)錫鉛(qian)→L／Q防(fang)焊(han)→文字印(yin)刷(shua)→噴錫→成(cheng)撈→成(cheng)品清(qing)洗→測(ce)試→成檢(jian)→包(bao)裝(zhuang)→出貨(huo)。

（4）內(nei)層線路制作(zuo)工序：前處理→壓膜(mo)D／F，塗(tu)飾L／D→曝光(guang)→顯(xian)影(ying)→蝕(shi)刻→黑化。

上(shang)海(hai)線路板廢(fei)水(shui)處理設(she)備(bei)處理方法(fa)有(you)：氧化法(fa)、生(sheng)物(wu)處理法(fa)、硫化鈉(na)法(fa)、過(guo)濾(lv)-吸(xi)附(fu)凝(ning)聚法(fa)等(deng)

（1）氧化法(fa)：氧化法(fa)處理PCB油(you)墨廢(fei)水(shui)，是(shi)壹種強烈(lie)氧化反(fan)應(ying)，氧化常(chang)用(yong)的(de)方(fang)法(fa)有(you)電(dian)解氧化法(fa)、化學(xue)氧化法(fa)、光(guang)氧化法(fa)。

（2）生(sheng)物(wu)處理法(fa)：PCB線路板廢(fei)水(shui)生(sheng)物(wu)處理法(fa)較(jiao)常用(yong)的(de)為(wei)接(jie)觸(chu)氧化法(fa)，進(jin)入生(sheng)物(wu)處理法(fa)前(qian)需(xu)要(yao)將廢(fei)水(shui)中(zhong)重(zhong)金屬(shu)離子(zi)去(qu)除(chu)，經(jing)生(sheng)物(wu)處理後(hou)的CODcr可達(da)到(dao)小於100 mg/L.

（3）過(guo)濾(lv)吸(xi)附(fu)法(fa)：將廢(fei)水(shui)經(jing)過(guo)預處理後(hou)，由泵(beng)泵(beng)入過(guo)濾(lv)器(qi)，廢(fei)水(shui)經(jing)過(guo)濾(lv)器(qi)後(hou)的水(shui)可去(qu)除(chu)大部分油(you)墨和(he)SS，過(guo)濾(lv)後(hou)的水(shui)再(zai)進入活(huo)性碳(tan)吸(xi)附(fu)，通過(guo)活(huo)性碳(tan)的(de)吸附(fu)、分(fen)解作(zuo)用(yong)，能(neng)達(da)到(dao)很好(hao)處理效(xiao)果。

（4）酸(suan)化-凝(ning)聚法(fa)：酸(suan)化凝(ning)聚法(fa)是(shi)目前(qian)作(zuo)為(wei)油(you)墨廢(fei)水(shui)預處理常用(yong)的(de)處理工藝(yi)，先將廢(fei)水(shui)PH調(tiao)低，（PH2-3）範(fan)圍內(nei)，油(you)墨廢(fei)水(shui)中(zhong)感(gan)光膜再(zai)酸性條件下(xia)析(xi)出濃(nong)膠狀凝(ning)聚物(wu)，其(qi)比(bi)重(zhong)比水(shui)輕，通過(guo)氣(qi)浮法(fa)將浮渣刮出，氣(qi)浮出水(shui)進(jin)入綜合(he)廢(fei)水(shui)處理。

電(dian)滲析(xi)是(shi)膜分(fen)離過(guo)程(cheng)中(zhong)較(jiao)為(wei)成熟(shu)的(de)壹項技術(shu)，已(yi)廣(guang)泛(fan)地應(ying)用(yong)於苦(ku)鹹(xian)水(shui)脫(tuo)鹽(yan)，是(shi)世(shi)界上(shang)某(mou)些(xie)地區生(sheng)產淡(dan)水(shui)的(de)主要(yao)方法(fa)。由於新(xin)開(kai)發(fa)的荷(he)電(dian)膜具(ju)有(you)更高(gao)的選擇(ze)性、更低(di)的膜(mo)電(dian)阻(zu)、更好(hao)的(de)熱(re)穩(wen)定(ding)性相化學(xue)穩定(ding)性以及更高的(de)機械(xie)強(qiang)度(du)、使(shi)電(dian)滲析(xi)過(guo)程(cheng)不僅限於應(ying)用(yong)在(zai)脫(tuo)鹽(yan)方面(mian)，而(er)且在食品、醫藥(yao)及化學(xue)工業中(zhong)，電(dian)滲析(xi)過(guo)程(cheng)還(hai)有(you)許多(duo)其(qi)他(ta)的工(gong)業應(ying)用(yong)，如(ru)工(gong)業廢(fei)水(shui)的(de)處理，主要(yao)包括(kuo)從(cong)酸(suan)液清(qing)洗金屬(shu)表面(mian)所形(xing)成(cheng)的(de)廢(fei)液中(zhong)回(hui)收酸和(he)金屬(shu)；從(cong)電(dian)鍍廢(fei)水(shui)中(zhong)回(hui)收重(zhong)金屬(shu)離子(zi)；從(cong)合(he)成纖(xian)維廢(fei)水(shui)中(zhong)回(hui)收硫酸鹽(yan)；從(cong)紙(zhi)漿(jiang)廢(fei)液中(zhong)回(hui)收亞(ya)硫酸鹽(yan)等。

在電(dian)滲析(xi)過(guo)程(cheng)中(zhong)，也(ye)進行以下次要(yao)過(guo)程(cheng)
①同名離子(zi)的(de)遷移(yi)，離子(zi)交(jiao)換膜的(de)選擇(ze)透過(guo)性往往(wang)不可能(neng)是(shi)的，因(yin)此總會(hui)有(you)少(shao)量(liang)的相反(fan)離子(zi)透(tou)過(guo)交(jiao)換膜；
②離子(zi)的(de)濃(nong)差(cha)擴(kuo)散(san)，由於濃(nong)縮室和(he)淡(dan)化室(shi)中(zhong)的(de)溶液中(zhong)存(cun)在著濃(nong)度(du)差(cha)，總會(hui)有(you)少(shao)量(liang)的離子(zi)由濃(nong)縮室向(xiang)淡(dan)化室(shi)擴(kuo)散(san)遷移(yi)，從(cong)而(er)降(jiang)低(di)了滲析(xi)效(xiao)率；
③水(shui)的(de)滲透(tou)，盡(jin)管(guan)交(jiao)換膜是(shi)不允許溶(rong)劑分(fen)子透(tou)過(guo)的(de)，但是(shi)由於淡(dan)化室(shi)與(yu)濃(nong)縮室之(zhi)間存(cun)在(zai)濃(nong)度(du)差(cha)，就會使(shi)部分溶(rong)劑分(fen)子（水(shui)）向(xiang)濃(nong)縮室滲透(tou)；
④水(shui)的(de)電(dian)滲析(xi)，由於離子(zi)的(de)水(shui)合(he)作(zuo)用(yong)和(he)形(xing)成(cheng)雙(shuang)電(dian)層，在直流(liu)電(dian)場(chang)作(zuo)用(yong)下(xia)，水(shui)分(fen)子也(ye)可從(cong)淡(dan)化室(shi)向(xiang)濃(nong)縮室遷移(yi)；
⑤水(shui)的(de)極(ji)化電(dian)離，有(you)時由於工(gong)作(zuo)條件不良(liang)，會(hui)強(qiang)迫(po)水(shui)電(dian)離為(wei)氫離子(zi)和(he)氫氧根離子(zi)，它(ta)們可透(tou)過(guo)交(jiao)換膜進(jin)入濃(nong)縮室；
⑥水(shui)的(de)壓滲，由於濃(nong)縮室和(he)淡(dan)化室(shi)之間存(cun)在(zai)流(liu)體(ti)壓(ya)力(li)的(de)差(cha)別，迫(po)使(shi)水(shui)分(fen)子由壓力(li)大的(de)壹(yi)側向(xiang)壓(ya)力(li)小的壹側滲透(tou)。顯然，這(zhe)些(xie)次(ci)要(yao)過(guo)程(cheng)對電(dian)滲析(xi)是(shi)不利(li)因(yin)素(su)，但是(shi)它們都可以通過(guo)改(gai)變(bian)操(cao)作(zuo)條件予以避免或(huo)控制。

處理案例(li)：

某(mou)公司(si)生(sheng)產過(guo)程(cheng)產生(sheng)的(de)線路板廢(fei)水(shui)量(liang)1000噸/天，廢(fei)水(shui)中(zhong)的(de)主要(yao)汙染(ran)物(wu)為(wei)CODcr、Cr6+、總鉛(qian)、總銅(tong)、總鎳(nie)等(deng)廢(fei)水(shui)經(jing)處理後(hou)符(fu)合GB21900-2008中(zhong)表2標(biao)準(zhun)。